運用等離子體中的離子作純物理學(xué)撞擊，等離子體清洗儀主要是將化學(xué)物質(zhì)表層的分子或粘附化學(xué)物質(zhì)表層的分子擊掉，由于離子在工作壓力較低時(shí)，其均值自由基比較輕長(cháng)，具備一定的動(dòng)能累積，因而，在物理學(xué)撞擊中，離子的動(dòng)能越高，所撞擊的分子越多，若想以物理反應為主導，則需要較低工作壓力下開(kāi)展反映，使實(shí)際清洗效果更強。等離子清洗機的原理，關(guān)鍵借助等離子中活性顆粒物的“活性功效”來(lái)做到除去污垢的目地。等離子體清洗一般包含以下過(guò)程：將無(wú)機氣體激起成為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)吸咐到固體表層；將吸咐官能團與固體表層分子反應轉化成產(chǎn)物分子；將產(chǎn)物分子結構解析成氣相；反應殘余物擺脫表層。等離子體清洗儀技術(shù)的較大特性是，不用區分需要待清洗目標的種類(lèi)，對金屬材料、半導體材料、金屬氧化物和大部分纖維材料，如聚丙稀、聚酯、聚酰亞胺膜、聚氯乙烷、環(huán)氧樹(shù)脂，乃至聚四氟乙烯等，都可以處理獲得相應的效果，能夠開(kāi)展總體、局部及繁雜構造的清洗。