CRF plasma 等離子清洗機

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plasma等離子處理系統

CRF-VPO-20L-S

采用PLC+上位機控制系統,精準控制設備運行,可按照客戶(hù)要求定制設備,滿(mǎn)足客戶(hù)需求;

保養維護成本低,便于客戶(hù)成本控制;

高精度、快響應,良好的操控性能和兼容性,完善的功能和專(zhuān)業(yè)的技術(shù)支持;

處理產(chǎn)品均勻率達95%,節省人工,提升效率。

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設備詳細數據
名稱(chēng) 在線(xiàn)式真空等離子處理系統
型號 CRF-APO-20L-S
控制系統 PLC+上位機
外接電源 220V/AC,50/60Hz,3kw
射頻電源功率 600W/13.56MHz(可根據客戶(hù)要求定制)
腔體容量 8L(可根據客戶(hù)要求定制)
有效處理面積 470(L)*320(W)(Option)
氣體通道 兩路氣體可選:Ar、N2、H2、CF4、O2
外形 鈑金結構
料盒數量 4個(gè)(Max)(可根據客戶(hù)要求定制)

應用范圍

適用于印制線(xiàn)路板行業(yè),半導體IC領(lǐng)域,硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域,汽車(chē)電子行業(yè),航空工業(yè)等。印制線(xiàn)路板行業(yè)∶高頻板表面活化,多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污,軟板補強前活化。半導體IC領(lǐng)域:COB、COG、COF、ACF工藝,用于打線(xiàn)、焊接前的清洗;硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域∶硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。

真空等離子清洗機

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    認真對待每一次設備試驗

  • 嚴格的質(zhì)量控制

    設備出廠(chǎng)前連續24小時(shí)運行調試

  • 完善的服務(wù)體系

    集研發(fā)、制造、銷(xiāo)售以及售后服務(wù)為一體的等離子設備高新技術(shù)企業(yè)

  • 服務(wù)行業(yè)領(lǐng)域廣泛

    專(zhuān)注等離子研發(fā)20年,服務(wù)多種行業(yè)

  • 可特殊定制設備

    完全按照客戶(hù)需求制作設備

多項專(zhuān)利證書(shū),廠(chǎng)家實(shí)力認證

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